科技新聞網站Tom’s Hardware報導，日本科學家已研發出精簡版「極紫外光微影」（EUV）掃描器，號稱能讓晶片生產成本大幅降低。
報導指出，沖繩科學技術研究院（OIST）的Tsumoru Shintake教授已率領團隊，開發出簡化的EUV設備，克服了EUV微影技術的兩大難題：防止光學像差，和確保光傳導效率。
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OIST團隊的「雙線場」（dual-line field）方法可照明光罩，同時不對光程產生干擾，這麼一來就能把扭曲問題最小化，並提升矽晶圓上的影像精密度。
這種精簡化EUV微影工具設計的一大優勢，是能提升可靠度並降低維護的複雜度。
另一優勢是大幅降低耗電量。拜光程優化之賜，這套系統只需20W的EUV光源即可運作，總功耗低於100kW。相形之下，傳統EUV微影系統動輒需要超過1MW的功率。由於耗電量降低，新系統不需複雜、昂貴的冷卻系統。
這套新系統的效能已經過光學模擬軟體驗證，確定能用於先進半導體生產。OIST已提出專利申請，但多快商業化尚不明朗。OIST認為，這項創新朝解決晶片生產成本高、耗電兇的全球挑戰邁出關鍵一步。
這項發明可能導致重大的經濟效益。全球EUV微影設備市場規模可望持續擴增，從2024年估計的89億美元，擴增至2030年的174億美元。
