離職陳力銘、在職工程師吳秉駿、戈一平涉洩漏關鍵技術，遭檢方依違反國安法等罪起訴，智慧財產及商業法院昨天辯論終結，訂4月27日宣判，另查出陳力銘前年涉嫌指使前台積電工程師陳韋傑，以手機偷拍機密資料，今裁定陳力銘、陳韋傑2人自4月1日及8日起延押2月。

台灣高檢署智慧財產檢察分署起訴指出，陳力銘曾任台灣積體電路製造股份有限公司12廠良率部門工程師，離職後進入台積電的半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司行銷部門。

檢方表示，陳力銘於2023年至去年上半年，為替東京威力公司爭取成為台積電更多站點設備供應商，多次要求當時在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後由東京威力公司檢討改善蝕刻機台表現，爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。

台積電發覺異常後內部調查，懷疑有在職與離職員工非法取得關鍵技術與營業秘密，去年7月8日提出告訴。智財分署檢察官於同年7月25至28日指揮調查局發動搜索、約談，訊後將陳力銘、吳秉駿、戈一平聲請羈押禁見獲准。

智財分署於去年8月27日依營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪、國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪起訴3人，並求處陳力銘應執行有期徒刑14年、吳秉駿應執行9年徒刑、戈一平7年徒刑。

檢方後續又查出，陳力銘於2024年5月涉嫌指使前台積電工程師陳韋傑，以手機偷拍數十張涉及2奈米製程原料與設備技術的機密資料。事件曝光後，東京威力科創盧姓行銷經理疑為掩蓋證據，刪除雲端硬碟內的台積電機密資料。

檢方依國家安全法及湮滅刑事證據等罪嫌，追加起訴陳力銘、陳韋傑、盧姓經理及東京威力科創，並分別對陳力銘求刑7年、陳韋傑8年8月、盧姓經理1年，東京威力科創則求處罰金2500萬元。

全案偵查終結後，檢方於今年1月提起第二次公訴；陳韋傑移審後，也遭智慧財產及商業法院裁定續押。智慧財產及商業法院昨天下午辯論終結，將在今年4月27日上午11時宣判，同時命吳秉駿、戈一平於宣判期日到庭聆判。

檢方另考量被告陳韋傑否認違反國家安全法犯行，對所涉犯罪情節、手段供詞，確曾前後所述不一，並對犯罪細節避重就輕，對陳韋傑共同犯罪情節調查，仍有勾稽比對相關電磁紀錄與共犯陳力銘及其他證人供述內容可能性，倘若 陳力銘、陳韋傑2人仍有機會相互勾串或湮滅證據，有使案情陷於混沌不明的高度可能性，原羈押原因現仍存在，今裁定陳力銘和陳韋傑自今年4月1日及8日起，延長羈押2月並禁止接見通信。