工程師陳力銘、吳秉駿、戈一平涉二洩密案，被檢方依違反國安法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪、竊取營業秘密罪等起訴，智慧財產及商業法院認為3人犯嫌重大，有串、滅證之虞，裁定繼續羈押禁見3個月。陳力銘等3人提抗告，最高法院裁定駁回，3人確定續押。

陳力銘、吳秉駿、戈一平涉竊取現階段全球最先進的晶片製造工藝二奈米製程關鍵技術，檢方起訴指出，陳曾擔任台積電12廠良率部門工程師，離職後至台積電製造設備供應商、東京威力科創公司行銷部門任職，理應熟知台積電各項機密資訊保護措施及供應商保密約定。

但陳為在新東家東京威力有所表現，自去年下半年至今年上半年間，屢次利用與吳、戈男等在職員工的舊日情誼，要求對方提供台積電核心秘密檔案，供陳拍攝重製後，傳送給東京威力，用以檢討改進自身蝕刻機台。

台積電事後發現工程師對機密檔案有異常接觸，經內部調查後向檢方提告，檢察官經分析相關電磁紀錄及證物，認為陳力銘3人涉及竊取攸關半導體產業命脈的國家核心關鍵技術，嚴重台灣國際競爭力，起訴3人並各求處7至14年重刑。

據了解，吳、戈供稱，因陳自稱小孩生病亟需用錢，出於情義相挺才配合洩密，從未想過後果如此嚴重，也未收受金錢或其他利益。智慧法院認為3人犯嫌重大，雖坦承犯行但供詞前後不一、避重就輕，且案發後有刪除對話紀錄之舉，有串、滅證之虞，並不排除有其他可能涉案的法人或自然人，裁定續押禁見。

陳力銘等3人均不服裁定而提出抗告，最高法院認為智慧法院裁定並無違誤，量刑妥適，駁回抗告，全案確定。